一家中国公司和一家美国巨头，在台湾和上海两地，历时近三年，上演了一幕幕错综复杂的专利交锋。法律争执背后，是市场份额的纠葛和博弈。
继销售战、商誉战、品牌战之后，法律战越来越成为市场竞争的主要手段，尤其是在高科技产品领域，以专利战为代表的法律战将扮演着越来越重要的角色
眼下，上海中微半导体设备有限公司(AMEC，下称“中微公司”)还在为三年前的一起专利侵权官司劳心费神。
中微公司是一家总部位于上海的半导体设备制造企业，算是全球半导体设备行业的后起之秀，与其发生纠纷的则是国际半导体设备制造巨头———美国泛林半导体设备技术公司(Lam Research，下称“泛林公司”)。2009年年初，泛林公司以中微公司侵犯其专利为由将中微公司告上台湾智慧财产法院(台湾专门审理知识产权的法院)。
三年来，台湾智慧财产法院先后作出两次判决，结果都对中微公司较为有利。目前该案的三审判决尚未作出(台湾有三审制)。
不过中微公司认为，泛林公司技术人员在证据保全过程中超范围查看公司涉案设备的内部结构，且通过不当手段获取了中微公司培训客户的绝密技术资料，侵犯了公司的商业秘密，遂将泛林公司及相关涉案人员作为被告起诉至上海市一中院，请求法院判令相关被告停止侵权，销毁所有含有原告商业秘密的信息及其载体，禁止使用原告的商业秘密，并赔偿5000万元人民币。目前案件已获立案。
一起由专利侵权引发的案件，从台湾打到了上海，历时近三年，仍无停歇迹象。中微公司的此次诉讼经历还入选了由国家知识产权局、国家工商总局、国家版权局共同主办的“2011年度全国知识产权保护10大案件”。
业内人士表示，这起案件对中国半导体行业，甚至是中国高科技企业都有很大的借鉴意义，中国企业应当学习在面对专利纠纷时，如何在证据保全过程中保护企业的技术秘密、如何扫清与老东家之间商业秘密侵权的阴霾等。
从台湾打到上海的官司
事情还要从2009年泛林公司提起对中微公司的诉讼说起。
2009年1月，美国泛林研究公司在台湾向中微公司提起专利侵权诉讼。泛林公司指控中微公司PrimoD-RIE介质刻蚀设备侵害了泛林公司在台湾的136706号专利(电浆密封环专利)和1266873号专利(聚焦环装置专利)。
随后，中微公司向台湾智慧财产法院提起泛林公司这两项专利无效的抗辩。
2009年9月，台湾智慧财产法院在一审判决中驳回了泛林公司关于电浆密封环专利侵权的诉讼。泛林公司不服，随即提起了上诉。经过漫长的评议审理，2011年1月，台湾智慧财产法院驳回了泛林公司的上诉。
就在同一个月，台湾经济部智慧财产局(TIPO)宣布泛林公司的1266873号专利由于缺乏新颖性和创造性而失效。台湾智慧财产法院继而宣布该专利无效，因而无法构成指控中微公司侵权的依据。
接连遭遇两次失败，泛林公司的霉运似乎并未终结。
在案件的审理过程中，应泛林公司的要求，台湾智慧财产法院作出了专利侵权证据保全的裁定，不过这一裁定又为日后中微公司提起侵犯商业秘密之诉埋下了伏笔。
中微公司称，两名参与证据保全工作的泛林公司技术人员违反了保密承诺，理由是在随后的庭审过程中，泛林公司根据这两名技术人员违规超范围查看的内容增加了自己的诉讼请求。中微公司认为自己的技术秘密受到了侵犯。
“更为重要的是，案件在台湾的庭审过程中，泛林公司一名技术人员向法庭陈述，自己曾在中国大陆看到过涉案设备，认为其中的内部结构和泛林公司的专利结构相同，构成侵权。”中微公司上海案件的诉讼代理律师李德成介绍说。
此外，泛林公司向法庭提交的证据当中，还包括中微公司用于培训客户的绝密技术材料，而且美国泛林公司还将这些材料的保密标识、权利人标识遮盖后向法庭提交。
这些证据的出现，让中微公司认为自己的商业秘密受到了侵犯，提起商业秘密侵权之诉成为了必然。于是乎，一起被诉专利侵权的案件，又引发出了一起侵犯商业秘密的案件。
2012年年初，中微公司将美国泛林公司及相关涉案人员作为共同被告起诉至上海市一中院。
法治周末记者就该案件采访了泛林公司代理律师、北京金杜律师事务所律师倪震华。倪震华表示，目前案件正在审理过程中，尚不方便对媒体透露。
证据保全侵犯商业秘密
官司从台湾打到上海，证据保全是案件的关键。据记者了解，在涉及专利案件的证据保全过程中，为了避免发生另一方的技术秘密泄密，法院一般都要求参与证据保全的相关人员签订保密协议。
此次泛林公司对中微公司半导体设备进行证据保全工作也不例外。李德成对法治周末记者介绍说，在证据保全过程中，台湾法院也要求参与保全的全体人员，包括美国泛林公司两名技术人员作出书面承诺，“保证不超出范围来查看涉密的设备;不得就所查看的内容向自己所在公司透露;不得针对所查看的内容进行拍摄或者记录草图”等。
不过，中微公司认为泛林公司的两名技术人员在查看过程中违反了上述承诺，违规超范围查看了涉案的刻蚀设备，侵犯了公司的技术秘密。
记者就该技术秘密泄露一事联系中微公司创始人兼首席执行官尹志尧，被告知由于公司目前正在同泛林公司谈和解，所以不方便接受采访。
这起案件让从事知识产权业务的李德成不禁感慨，在专利侵权案件的证据保全过程中，如何采取防范措施防止技术泄密显得尤为重要。
李德成表示，在美国，如果参与证据保全的工作人员超范围获取他人商业秘密要承担非常严重的法律责任，而我国大陆和台湾地区的法律对此则没有任何惩罚性规定。
“这起案件给业界有很大的启示：一方面，要进一步完善我国的知识产权立法;另一方面，在法律尚不完善的情况下，在专利侵权的证据保全过程中，降低泄密风险显得尤为关键。”李德成认为，目前较为现实的选择是，尽可能地避免让对方技术人员参与其中，而是让独立的第三方专家来参与，并与之签订保密协议。
“证据保全过程中并不必然导致商业秘密的泄露。”中国社会科学院知识产权研究中心副主任李顺德则有着不同的观点，“一方在进行证据保全时接触到了涉案的产品或者设备，并不意味商业秘密就此泄露。商业秘密须具有非公知性、价值性、保密性等特点，对此，作为被取证一方必须进行举证。此外，在采取证据保全时，如果被取证一方认为涉案设备涉及公司的商业秘密，应当事先向法院声明。”
此外，李顺德还特别强调，如果一方是通过非法手段获得被取证方的绝密技术资料的，就涉嫌构成对被取证方商业秘密的侵害了。
专利已成商业竞争策略
凭借强大的技术背景团队和幕后包括高盛、三星在内的国际资本的推动，中微公司自2004年成立后，就以高速的成长引起了业界的关注。
资料显示，在中微公司之前，全球能够提供等离子刻蚀机和化学薄膜沉积设备的企业共有四家，其中三家是位于美国硅谷的应用材料公司、泛林公司和诺法公司(NVLS)，另外一家是位于日本的东京电子(TEL)。
2004年之后，中微公司开始在全球开始攻城略地，这也使其成为国外半导体行业巨头的进攻目标，中微公司同这些巨头之间的专利诉讼也逐渐多了起来。
中国半导体行业协会一位林姓负责人表示，半导体设备制造领域，尤其是刻蚀设备等半导体的关键设备制造领域，一直被泛林、美国应用材料公司等几家国际巨头所垄断，凭借市场垄断地位，他们掌握了产品的定价权，并以此获取超额回报，而中国企业快速的崛起无疑给这些巨头的垄断优势带来了挑战，这是专利战爆发的直接原因。
“同等精度下，国产设备较国外设备价格低20%以上。”该负责人对法治周末记者说，“当下全球经济增长放缓、市场蛋糕愈发减少的背景下，市场主体间的竞争势必更加惨烈。此时，为了获取竞争优势，专利就派上了大用场。”
对此，多次被卷入专利诉讼中的中微公司创始人、首席执行官尹志尧更是深有体会。尹志尧此前曾对媒体感慨：“现行的专利制度下，专利并不一定代表最新的技术，也不一定最终转化为产品，很多情况下是作为大公司打击小公司的一种‘战略储备’，若深究之，其中不少专利都是无效的。”
从2007年至今，中微公司先后被几家行业巨头以专利侵权或者侵犯商业秘密为由告上法庭，不过最终的结果，不是和解就是中微胜诉。不过即便如此，尹志尧也表示公司五年来花在诉讼上的费用已超过了2000万美元。
“目前专利诉讼不仅成为了一些行业巨头打压同自己实力相当的竞争对手的砝码，而且还成为大公司牵制一些初创公司的重要策略了。一旦打起专利战，对初创公司而言，不仅意味着巨额的诉讼费，还需要技术部门配合法务部门的工作，而且还会牵涉公司高层的精力。”资深专利代理人赵剑飞对法治周末记者说。
其实，专利诉讼不光是在半导体设备行业常见，在很多高科技行业，诸如智能手机领域，像苹果、诺基亚、谷歌Android系统几大阵营间的专利战更是打得不可开交，这些巨头一方面通过技术创新不断开疆拓土;另一方面，也频频动用专利武器，以求最大限度地阻击和牵制竞争对手。甚至有人抱怨：“专利诉讼正在干扰正常的创新活动。”
不过，李顺德则认为，不是所有运用专利诉讼参与市场竞争的企业都是在滥用这种手段：“就专利制度的设计初衷而言，就是允许权利人运用专利来维护自身的合法权益，包括利用专利从事竞争，尤其是对拥有经过实质性审查的发明专利的企业而言。”
老东家的秘密亦须保守
上述林姓负责人告诉法治周末记者，半导体行业，尤其是半导体关键设备制造领域俨然是一个技术密集型的行业，技术壁垒非常高。
作为从事高技术壁垒行业的中微公司，不可避免要逾越技术障碍。据法治周末记者了解，中微公司是由海归创办的高新技术企业，其中有数十人先前都在美国应用材料公司、泛林公司等行业巨头供职过，有非常丰富的从业经验。
不过这样的团队构成，也容易让当初的东家担心，技术秘密是否由此被带入中国，被带入中微公司?
其实，最先和中微公司发生冲突的企业是美国应用材料公司(AMAT)，它就是以此来起诉中微公司的。
尹志尧自己就曾担任过美国应用材料公司的副总裁，2004年回国创办了中微公司，此举显然惹恼了老东家。
2007年10月，美国应用材料公司向美国加州法院提起诉讼，指控目前任职于中微公司的尹志尧等4名前雇员，使用其商业机密开发设备，要求停止侵权并赔偿。此案最终以和解结案。
对此尹志尧曾表示，在中微公司，除了他本人，所有海归雇员在加入公司前，“都必须签订承诺书，保证没有携带任何前公司的技术秘密，一旦发现违规，由员工个人承担全部法律责任”。
有业内人士指出，中微公司此举可以杜绝自己在知识产权问题上潜在的“硬伤”，也为最终达成和解奠定了良好的基础。
不过李顺德则对法治周末记者表示，这种入职前承诺其实并不能真正解决问题：“一般而言，担任过一家公司的高层管理人员，一般都掌握很多有关这家公司的商业秘密，因此法律一般会对公司的高级管理人员、高级技术人员和其他负有保密义务的人员规定有不超过两年的竞业限制期限。当然作为公司要给予相应的补偿。”
然而，即便过了两年的竞业限制期限，这也并不意味着相关人员不再对老东家的商业秘密负有保密义务。“只要原公司的商业秘密仍具有非公知性、价值性、保密性的特点，作为前雇员就不得向外披露，或者使用该商业秘密。一旦有所违背，对原公司造成损失，原公司举证是比较容易的。”李顺德说。
刻蚀设备
本案的焦点“刻蚀设备”是芯片集成电路制造过程中一种非常重要的微观加工设备。微处理器(CPU)、存储设备(DRAM)和各种逻辑电路的制造，都需运用到刻蚀设备。
长期以来，由于技术门槛高，世界半导体装备制造的高端关键设备被国外几家大公司所垄断，特别是超高精度的刻蚀设备。掌握了刻蚀设备的制造专利，就等于控制了整个芯片集成电路制造业的前端。
中微公司之前，全球能够提供等离子刻蚀机和另外一项半导体制造关键设备的企业共有四家，其中三家位于硅谷，分别是应用材料、泛林公司(LAM)和诺法公司(NVLS)，另外一家东京电子(TEL)位于日本。
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